淀积系统


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热蒸镀系统

原子层沉积系统

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分子气相沉积(MVD)系统

Sigma沉积系统

化学气相沉积(PECVD)系统

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PECVD等离子体化学气相沉积

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PA-MOCVD系统

Sigma 产品系列支持 100 毫米至 300 毫米的晶圆尺寸,涵盖 PVD ​​到 MOCVD

以高度可重复的气相沉积替代方法取代了传统的液体涂层工艺,非常适合制造应用


PECVD是一种利用等离子体内的能量在晶片表面引发反应的过程

溅射系统


电子束蒸镀系统