光刻系统

P9000集群系统可以处理50mm至300mm晶圆

NOC-4000双腔光学涂覆系统为光学样品提供离子束刻蚀/离子铣和溅射涂覆处理。样品在第一个离子束腔体内清洁/抛光后，自动传送到第二个腔体内溅射涂覆，无需中断真空。