产品信息

NM NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置，主腔体为工艺腔，另一个为电子束源腔体。两腔体间可选配门阀可作为预真空锁，基片在工艺腔放入/取出时，保持源腔体的真空。系统支援序列蒸镀、共蒸镀，及通过PC控制编辑组份或组份梯度。支援自动上下载片功能升级，可根据使用者需求提供定制支援。

特点：

  · 序列蒸镀/共蒸镀(选配双电子束源)

  · Multi-Pocket（4或6可选，15CC）电子枪

  · 可程式设计电子束扫描

  · 6KW开关电源（10KW可选）

  · 8”旋转基片（可升级支援12”）

  · 基片到电子束源的距离大约为15”-18”

  · 涡流分子泵，极限真空5×10-7Torr

  · 手动放片（可升级为自动上片功能，单片或25片Cassette）

  · 晶体膜厚监测器，达到目标膜厚自动停止工艺

  · 基于LabVIEW软体的电脑全自动工艺控制

  · 功能表驱动，多级密码授权访问保护

  · 完全的安全联锁